光刻机(Mask Aligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备 。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上 。光刻机的种类可分为:接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光 。
光刻机的工作原理是通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上 。然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图 。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序 。光刻机的制造和维护需要高度的光学和电子工业基础,因此,世界上只有少数厂家掌握 。

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光刻机是用来做什么的?
【光刻机是什么,光刻机是用来做什么的?】光刻机的作用是蚀刻芯片的功能及线路,当然也包括了制造处理器这样的大规模集成电路或者内存颗粒、闪存颗粒等等 。--光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备 。可以分为两种,分别是模板与图样大小一致的contact aligner,曝光时模板紧贴芯片;以及利用类似投影机原理的stepper,获得比模板更小的曝光图样 。
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